Ионно-плазменное нанесение покрытий
Ионно-плазменное нанесение покрытий (катодное, магнетронное, высокочастотное распыление и др.) позволяет формировать покрытия из металлов и сплавов, различных соединений и композиций.
Достоинства ионно-плазменного нанесения покрытий:
- более высокая прочность сцепления и плотность полученных покрытий из-за более высокой энергии распыленных частиц;
- формирование покрытий без изменения стехиометрического состава;
- возможность получения покрытий из особотугоплавких и неплавящихся материалов;
- возможность управления составом и свойствами покрытия в процессе нанесения;
- возможность очистки поверхности основы и растущего покрытия.
Основные недостатки, которые имеет ионно-плазменное нанесение покрытий:
- скорости напыления, как правило, ниже, чем при других вакуумных методах, за исключением магнетронного, где скорости осаждения покрытия достигают 25—45 им/с;
- количество загрязнений в материале покрытий несколько выше;
- объем камеры ограничивает размер изделия.
Другие страницы по теме
Ионно-плазменное нанесение покрытий
: