Сеть профессиональных контактов специалистов сварки.
             

Установка плазменного напыления

Темы: Нанесение покрытий, Плазменное напыление., Схема сварочного ... .

Установка плазменного напыления - комплект, в который входят пульт управления, плазмотрон, порошковый дозатор, источник тока, система газоснабжения с баллонами газа или сетевого снабжения, система водоохлаждения замкнутого цикла с резервуаром для воды, водяным насосом и другими сопутствующими устройствами.

Большинство промышленных отечественных плазменных установок предназначено для ведения процесса напыления в атмосфере воздуха. Процесс напыления производят в специальных камерах, имеющих локальную автономную вытяжную вентиляцию.

В табл. 1 приведены технические характеристики отечественных плазменных установок.

Пульт управления.

а)

установка плазменного напыления

Пульт управления является оперативным блоком плазменной установки и предназначен для ее включения/отключения в режимах "настройка" и "работа", а также управления рабочими параметрами процесса напыления покрытия, в том числе регулирования тока, напряжения, расходов газа. Он содержит блокировочные схемы, отключающие работу плазменной установки при аварийных режимах (снижение давлений воды, газа и др.).

Широко применяют в технологии плазменного напыления покрытий на детали универсальную плазменную установку УПУ, что обусловлено высокой надежностью и простотой конструкции ее пульта управления. УПУ выпускаются с 1963 г.

Плазмотрон.

Плазмотрон является рабочим инструментом любой плазменной установки. Для напыления покрытий при упрочнении и восстановлении рабочей поверхности деталей применяют электродуговые плазмотроны (рис. 1).

Конструкция электродугового плазмотрона содержит следующие основные элементы:

  • анодный блок (сопло-анод), изготовленный из бескислородной меди;
  • катодный блок (катод изготовлен из термостойкого материала, например лантанированного вольфрама);
  • электрический изолятор между анодным и катодным блоками.

Через изолятор в рабочую разрядную камеру подается рабочий плазмообразующий газ (аргон, азот, их смесь или др.).

Анодный и катодный блоки интенсивно охлаждаются проточной водой.

Конструкция сопла-анода плазмотрона определяет длину электрической дуги, ее стабильность горения и скорость истечения плазменной струи и в значительной мере тепловой кпд и эффективный кпд процессa нагрева распыляемого порошкового материала.

В табл. 2 приведены характеристики плазмотронов к отечественным плазменным установкам.

В электродуговых плазмотронах с самоустанавливающейся длиной электрической дуги канал сопла гладкий и имеет длину в диапазоне 10—30 мм. Для некоторой фиксации длины электрической дуги разрядный канал сопла выполняют с уступом. Для жесткой фиксации положения электрической дуги в специальных плазмотронах применяют секционные сопла с межэлектродными вставками (МЭВ). Наличие секций (5—10 шт.) позволяет сначала растянуть дугу, а затем фиксировать ее активное пятно на выходе из канала — это увеличивает эффективность работы электродугового плазмотрона.

Подача распыляемого порошкового материала осуществляется либо на срез сопла, либо в различные участки плазменной струи. Эффективность нагрева порошкового материала в плазмотроне и равномерность его распределения по пятну напыления зависят от схемы ввода порошка в плазменную струю (рис. 3, 4). К узкоспециализированным плазмотронам относят конструкции, позволяющие применять в качестве рабочих газов воздух, углеводороды, их смеси и другие среды.

 

К основным параметрам электродуговых плазмотронов относятся его конструктивные параметры:

  • диаметр сопла dc = 3÷8 мм;
  • длина канала сопла lс = (2÷3)dc — для плазмотронов с самоустанавливающейся длиной дуги;
  • длина канала сопла lс = (5÷10)dc — для плазмотронов с фиксированной растянутой длиной дуги;
  • заглубление электрода (катода) в сопло lз;
  • профилирование канала сопла для получения ламинарных и сверхзвуковых плазменных струй (см. рис. 2, 3);
  • диаметр катода dк;
  • угол заточки катода αк;
  • диаметр притупления катода dпр.

Соотношения указанных размерных параметров плазмотрона определяются опытным путeм.

Таблица 1. Технические характеристики отечественных плазменных установок.

Характеристика Установка плазменного напыления
УПУ-3Д УПУ-8Д УМП-7 Киев-7
Мощность плазмотрона, кВт 25 40 39 ≤100
Рабочее напряжение, В 30—100 25—100 160—180 140—260
Ток, А 100-500 100-700 170—200 100—315
Количество порошковых дозаторов 1 2 2 2
Объем дозатора, дм3 - 4,5 5 5
Максимальная производительность пo порошку Al2O3, кг / чаc 4 5 5 10
Расхoд газа, м3/ч:
плазмообразующего 0,9—6,0 от 2 до 4 5,0 3,9—12 (вoздуx)
транспортирующeгo 0,2—1,0 0,5—1,5 2,0 -
Масca плазмотрона, кг 0,50 1,1 1,9 2,0
Массa установки, кг - 2100 0,5—1,5 1150
 

плазмотрон установки плазменного напыления

Рис. 2. Схемы конструкций электродных узлов в плазмотронах: а — гладкое цилиндрическое сопло; б — сопло с уступом; в — сопло с МЭВ; г — сопло профилированное; д — вольфрамовый катод; е — катод с циркониевой вставкой; 1 — вольфрамовая вставка; 2 — держатель катода; 3 — циркониевая вставка.

Таблица 2. Технические характеристики плазмотронов к отечественным плазменным установкам.

Характеристика плазматрона
Установка плазменного напыления
УПУ-3Д УПУ-8Д УМП-7 Киев-7
Мощность, кВт 25 40 39 ≤100
Максимальный ток, А 400 700 250 -
Рабочий плазмообразующий газ Аргон, азот Аргон, азот Азот Воздух, природный газ
Давление охлаждающей воды, МПа 0,4 0,35 0,35 -
Раcхoд вoды, м3 0,6 1,5 0,2 -
Маcca, кг 0,50 1,1 1,9 2,0
Ресурс сопла, ч 4 - - -

Pис. 3. Схемы ввода порошка в плазменную струю.

 

Источник тока плазменной установки.

Для возбуждения электрической дуги в электродуговом плазмотроне служит источник электроэнергии постоянного, переменного или импульсного режима действия. Применяемые в плазменных установках источники постоянного тока различных электрических схем и конструктивных оформлений могут иметь жесткую или крутопадающую внешнюю ВАХ, которая должна быть согласована с ВАХ плазмотрона.

Экономически целесообразно применять для питания электродугового плазмотрона источник тока с крутопадающей ВАХ.

В комплексе технологического оборудования для плазменных покрытий широко используется источник тока ИПН 160/600 с магнитоуправляемы ми трансформаторами, позволяющий плавно регулировать рабочий ток в широком диапазоне.

К основным достоинствам ИПН 160/600 относятся простота конструкции, надежность в работе, долговечность (высокий ресурс), невысокая стоимость, легкость в настройке и несложный ремонт.

К недостаткам следует отнести отсутствие системы автоматического регулирования.

ИПН 160/600 относится к первому поколению специализированных источников тока для плазменного напыления покрытий. Он преимущественно используется в комплекте плазменной установки типа УПУ.

Для питания током плазменной установки УМП-6 применяют три сварочных преобразователя ПД-502, соединенных последовательно.

Независимо от особенностей конструкции все источники тока, применяемые для плазменного напыления покрытий, должны удовлетворять следующим основным требованиям]:

  • устойчивость работы при токовых перегрузках;
  • высокая надежность и безопасность работы;
  • регулируемость напряжения холостого хода в пределах 90—380 В;
  • низкий уровень генерируемых радио- и электропомех;
  • простота и удобство в обслуживании и ремонте;
  • невысокая стоимость.

С 1988 г. отечественная промышленность начала серийный выпуск установок нового поколения типа УПУ-8М и др. В них в качестве источника тока используется ВПН-630 с тиристорным выпрямителем. Принципиальная схема ВПН-630, а также сравнительные ВАХ приведены на рисунке 4.

 

Рисунок 4. Принципиальная электрическая схема источника тока ВПН-630 (а) и сравнительные ВАХ источников тока ИПН 160/600 (б), ИПН-301 (в) и ВПН-630 (г) (штриховые линии — ВАХ дуги при максимальном напряжении ее горения): 1—3 — Uд равно 130, 120 и 70 В соответственно.

Параметры источников тока для плазменных установок приведены в таблице 3.

Таблица 3. Параметры источников тока для установок плазменного напыления.

Параметры Источник тока
ИПН 160/600 ВПН-630 ИПН-301
Номинальный ток, А 600 630 (I); 315 (II) 315
Напряжение холостого хода, В 80-160 140 (I); 280(II) ≤180
Пределы рабочего напряжения, В 40-70 30—70 (I), 50—120 (II) 50-130
Пределы рабочего тока, А 200-600 50—700 (I), 50—350 (II) 200-300
Потребляемая мощность, кВ•А 45 120 70
Кпд, не менее 0,73 0,70 0,75
Масса, кг 915 1100 295

 

Функционирование плазменной установки невозможно без принудительного охлаждения проточной водой плазмотрона и источника электрического тока. Эффективность охлаждения плазмотрона и источника тока определяет ресурс плазменной установки. Вода, применяемая для охлаждения, должна быть очищена от примесей. Преимущественно используют дистиллированную воду. Целесообразно для охлаждения плазменной установки применять автономную систему замкнутого цикла.

Расход воды через плазмотрон и источник тока составляет 15—30 дм3/мин. Отбор теплоты от возвратной воды можно осуществлять фреоновым хладагрегатом или радиаторным теплообменником, омываемым проточной водой из магистральной системы водоснабжения.

Рис. 5. Структурная схема водяного охлаждения плазменной установки УПУ: 1 — водяной насос; 2 — плазмотрон; 3 — источник электрического тока ИПН 160/600; 4 — резервуар с водой; 5 — холодильный агрегат УВ-10.

Промышленность выпускает специальный холодильный агрегат УВ-10.

Структурная схема системы водяного охлаждения плазменной установки приведена на рис. 12.

Применение данного оборудования для охлаждения плазменной установки обеспечивает снижение температуры охлаждающей воды в емкости холодильного агрегата до 2 °C.

Установка плазменного напыления может также охлаждаться холодильный агрегат МХУ-8С.

Параметры водяного охлаждения плазменной установки.

К основным параметрам системы водяного охлаждения плазменной установки относятся:

  • производительность по расходу воды 15—30 дм3/мин;
  • мгновенное срабатывание системы защиты электропитания плазменной установки в случаях отказов в системе водоснабжения путем релейной защиты;
  • стабильность и регулируемость рабочего давления воды в системе водоснабжения при наличии контрольных манометров;
  • невысокая стоимость комплектующих;
  • несложный и недорогой ремонт в случаях отказа в работе системы водоснабжения.

Система газопитания плазменной установки.

 
Газопитание плазменной установки осуществляется как от единичных баллонов, так и баллонных рамп. В качестве рабочих газов (плазмообразующих, транспортирующих) применяют аргон, азот, водород и др.

При небольших объемах плазменного напыления применяют сжатые газы в баллонах объемом 40 л под избыточным давлением 15 МПа.

При больших объемах работ плазменного напыления применяют централизованное питание установок жидким аргоном и азотом. Жидкий аргон/азот испаряют газофикатором из емкости, предназначенной для транспортировки этих газов. Образующийся газ по магистральному газопроводу поступает в компрессор и далее в разделительный газопровод. В табл. 6 приведены характеристики рабочих газов для плазменных установок.

В процессе плазменного напыления покрытия используются комбинации указанных плазмообразующих газов в различных пропорциях.

Газ Плотность, кг/м3 Относительная молекулярная масса, кг Удельная энтропия ΔH, Дж/моль Удельная энтропия ΔS, Дж/(моль•К) Коэффициент теплопроводности α10–3, Вт/(м2•°C) Удельная теплоемкость c, Дж/(моль•К)
Ar 1,78 40 155,9 3,88 17,7 0,50
H2 0,09 2,02 8522,0 180,90 183 28,30
He 0,18 4,00 1568,0 30,30 151 -
N2 1,25 28 311,2 6,90 24,7 1,04
Воздух 1,30 29 300,3 6,80 26,2 1,01

Другие страницы по теме

Установка плазменного напыления

:

Copyright. При любом цитировании материалов Cайта, включая сообщения из форумов, прямая активная ссылка на портал weldzone.info обязательна.

.